| 山本 洋 | 低誘電率材料の微細パターン制御および低ダメージプラズマエッチングプロセスに関する研究 Studies on Plasma Etching Process of Low Dielectrics for Fine Pattern Profile Control with Less Damage |
| Arkadiusz Malinowski | ラジカル表面反応解析技術の開発と先進CMOS形状シミュレーションへの応用に関する研究 Study of radical kinetic behavior investigation technique and its application in ultimate CMOS TCAD topography simulation |
| 深沢 正永 | 大規模集積回路における水素に起因したプラズマ誘起ダメージ及びプロセス変動制御に関する研究 Effects of Hydrogen on Plasma-Induced Damage and Fluctuations in ULSI Device Fabrication |
| 坪井 秀夫 | 磁気中性線放電プラズマの生成・制御と微細加工への応用に関する研究 Studies on Production and Control of Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma and Its Application to Microfabrication Technology |
| 服部 圭 (Kei HATTORI) |
半導体デバイス製造における高精度Al合金エッチングとその環境調和型システムの開発 |
| 尼﨑 新平 | 高精度シリコン高速深堀エッチングのための表面反応機構に関する研究 |
| 加藤 正規 | プリンタブルエレクトロニクスに向けた大気圧ミスト化学気相堆積技術の構築 |
| 神田 貴幸 | カーボンナノウォールの成長および伝導特性制御と三次元ナノグラフェンチャネルデバイスへの展開 |
| 近藤 祐介 | プラズマ活性種制御に向けたフルオロカーボンガスの構造と活性種生成機構の相関の解明 |
| 鷲見 直也 | 実時間・その場電子スピン共鳴を用いたプラズマ誘起表面反応機構の解析 |
| 萩野 達也 | アルコール液中プラズマ法によるナノグラフェンの高速合成 |
| 安田 幸司 | カーボンナノウォールの初期成長過程におけるナノグラフェン核発生機構の解明 |
| 高橋 朋大 | 液中プラズマ中の活性種の生成機構とナノグラフェンプロセスの創成 |
| 曹 佳棟 Jiadong CAO |
次世代FinFETに向けた低ダメージ高精度加工プロセスに関する基礎的研究 |
| 孫 昿達 Kuandga SUN |
大気圧ミストプラズマCVD法による超撥水性薄膜の形成とその表面物性・構造制御 |