博士論文
- 永井 幹夫(Mikio NAGAI)
- Studies on Environmentally Harmonic Etching Process Based on Plasma Diagnostics
- 西川 和康(Kazuyasu NISHIKAWA)
- A Study of ULSI Etching Technology Using Low-Pressure High-Density Plasma
修士論文
- 岩崎 正博
- フロン系ガスを用いた大気圧非平衡パルスプラズマ中の活性種の三次元分布計測に関する研究
- 久保田 良規
- ULSIゲート絶縁膜低温形成プロセスにおける希ガス添加酸素プラズマ中の活性種の挙動に関する研究
- 杉浦 幹在
- ULSIドライエッチングプロセスにおけるプラズマ誘起ダメージと修復に関する研究
- 高畑 正史
- パルス変調UHFプラズマによる発光性ナノ結晶シリコンの気相合成とナノ構造制御に関する研究
卒業論文
- 大林 友視
- カーボンナノウォールを用いたフィールドエミッションディスプレイデバイスの作成に関する研究
- 近藤 真悟
- ラジカル注入プラズマCVDを用いたカーボンナノウォールの安定成長と構造制御
- 佐々木 元
- カーボンナノウォール成長時における炭素原子絶対密度計測法の確立
- 早川 雪絵
- 量産型300mmエッチング装置を用いたULSI層間絶縁膜エッチングの基礎特性に関する研究