| 阿部 祐介 | プラズマ化学気相堆積法を用いたシリコン薄膜の作製およびラジカルの挙動に関する研究 Studies on Fabrication of Silicon Thin Films Using Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition and Behaviors of Radicals |
| 竹内 拓也 | 反応性ビーム照射を用いたプラズマエッチングプロセス中のフォトレジストの反応過程に関する研究 Studies on reaction kinetics of photoresist for plasma etching processes by using reactive beam irradiation |
| 宮脇 雄大 | 次世代ULSI製造プロセスにおける新規フルオロカーボンガスを用いた高選択絶縁膜エッチングとそのメカニズムに関する研究 Study on highly selective dielectric film etching using new alternative cases and its etching mechanism for a next generation ULSI fabrication process |
| 平岡 丈弘 | 超短パルスレーザー技術を用いた材料プロセスに向けた実時間・高感度モニタリング手法に関する研究 Studies on real-time and high sensitive monitoring methods for material processing using ultrashort-pulse laser techniques |
| 渡邊 均 | バイオナノ応用に向けたカーボンナノウォールの表面機能化に関する研究 Studies on surface functionalization of carbon nanowalls for their bio-nano-applications |
| 陳 尚 Shang CHEN |
窒化ガリウムの成長及び不活性化における原子状ラジカルの影響に関する研究 Studies on the effects of radicals on growth and passivation in gallium nitride |
| 岩田 義幸 | 高密度プリント配線板技術のための非平衡大気圧プラズマの表面処理への応用に関する研究 |
| 浅野 高平 | 高精度プラズマエッチングのためのフォトレジストのラフネス制御に関する研究 |
| 于 楽泳 Leyong YU |
Effects of impurity doping on crystallographic and electrical properties of amorphous carbon thin films
grown by plasma−enhanced chemical vapor deposition for solar cell application プラズマ化学気相堆積法によって成長した太陽電池用アモルファスカーボン薄膜の結晶構造及び電気的特性に対する不純物添加効果 |
| 陸 雅 Ya LU |
水素ラジカル注入型プラズマ源を用いた微結晶シリコン成膜に関する研究 |
| 九鬼 淳 | アモルファスカーボン薄膜のプラズマ化学気相堆積における基板バイアス効果の解明とその太陽電池応用に向けた研究 |
| 古室 達也 | DCバイアス重畳二周波容量結合型プラズマを用いた高選択エッチングプロセスに関する研究 |
| 米谷 亮祐 | GaNプラズマエッチング表面反応の基板温度依存性に閏する研究 Study on Surface Reaction of GaN Plasma Etching at High Substrate Temperature |
| 福島 敦史 | SiH4/H2プラズマ化学気相堆積法における気相ラジカルとシリコン薄膜膜質の関係性に関する研究 |
| 堀部 剛良 | 超臨界流体プロセスを用いた力ーボンナノウォールへの超高密度ナノ微粒子担持と環境デバイス応用に関する研究 |
| 礒部 諒 | 超高選択エッチング実現に向けた気相・表面計測によるプラズマ反応機構に関する研究 |
| 加古 隆 | 垂直積層カーボンナノウォールの電気的特性に関する研究 |
| 権田 亮 | 異種混合ガスプラズマによるプラズマ培養液の作成とその抗腫瘍効果に関する研究 |
| 中村 将之 | プラズマ化学気相堆積法において成長したアモルファスカーボン膜の電気的特性に関する研究 |
| 永野 浩貴 | プラズマキュアによるエッチング時のフォトレジストのラフネス形成抑制に関する研究 |
| 三輪 佳大 | Ｈラジカル注入型プラズマCVD法による微結晶シリコン薄膜の電気的特性に関する研究 |