超高密度非平衡大気圧リモートプラズマ源の開発・気相診断・ガラス表面洗浄プロセス
目的
超高密度非平衡大気圧リモートプラズマをガラス表面洗浄プロセスに応用し、メカニズムの解明を行うこと。
背景
活性種を高密度で生成できる大気圧非平衡プラズマが注目されています。さらに高速処理が行うためには、より高い電子密度を持つ大気圧非平衡プラズマを開発する必要があります。
本研究は、(株)富士機械製造との共同研究により超高密度非平衡大気圧プラズマ源の開発を行い、ガラス表面洗浄プロセスへの応用とともに、メカニズムの解明を目指しています。
アプローチおよび結果
図1に開発した大気圧非平衡プラズマを示します。水素原子の発光スペクトルを発光分光法により見積もり、一般的な大気圧非平衡プラズマよりも電子密度が1000倍であることがわかりました。
リモートプラズマ中の酸素ラジカル密度を真空紫外吸収分光法(VUVAS)により計測することで、プラズマ処理後のガラスの接触角と酸素ラジカル密度に強い相関性があることがわかりました。
M. Iwasaki,1 H. Inui, Y. Matsudaira, H.; Kano, N. Yoshida, M. Ito, and M. Hori, Appl. Phys. Lett. 92, 081503 (2008)