高密度ラジカルソース
背景
窒素プラズマにおける窒化プロセスが窒化膜の生成、エッチングダメージの修復及び窒素ドーピングに対して重要な役割に立つため注目されている。特にプロセ ス中原子状窒素ラジカルが重要と見られている。安定的、高密度窒素ラジカルを生成するため、高効率、安定な窒素プラズマソースが強めに求められている。
アプローチ
以前のラジカルソースは発光スペクトル或いはシミュレーションに基づいた密度のデータで開発されたが、今回われわれはVUVASで窒素ラジカル絶対密度の計測に基づいて高密度ラジカルソースを開発した。
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図1 : 高密度ラジカルソースの構造図